[导读]比利时微电子研究中间 (IMEC) 、阿斯麦 (ASML) 配合公布,两边将在开辟进步前辈高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻实验线的下一阶段增强合作。 比利时微电子研究中间 (IMEC) 、阿斯麦 (ASML) 配合公布,两边将在开辟进步前辈高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻实验线的下一阶段增强合作。 依照ASML的说法,2025年最先,客户就可以从数值孔径为0.33传统EUV多重图案化,切换到数值孔径为0.55 High-NA EUV单一图案化,下降制程本钱,提高产量。 Fouquet暗示,EUV光源输出功率一向稳步增添,ASML传统型号EUV光源输出功率为250W~300W,最新型号3600D增添到350W,此刻研究层面已做到600W,800W指日可待。 到2030年,利用High NA EUV的多重图案将与单一图案一路完成,以提高产量,并下降制程本钱,需要更高数值孔径的EUV暴光(NA=0.75)。 DUV、ArF、EUV和High-NA EUV手艺构成图案的每一个晶体管本钱都不竭转变,考量到新手艺价钱必然高在EUV每套3亿美元,High-NA EUV价钱将很是可不雅,但仍取决在客户要乞降开辟本钱。 在这之前,光刻机年夜厂ASML高管对外暗示,半导体业只有共同努力,成立完全自立的财产链,即便并不是不成能也会极为坚苦。
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为了可以或许从台积电手中从头夺回芯片制造手艺的领先地位,英特尔不吝血本抢购了售价高达3.5亿欧元的ASML最新一代High-NA EUV装备。为了见证“史上最贵”,英特尔分享了其位在美国俄勒冈州的D1X工场内、ASML工程团...
要害字: ASML 英特尔近日韩媒动静,韩国半导体巨子三星电子表露的审计陈述显示,客岁第四时度已兜售所持有荷兰光刻机制造巨子 ASML 公司残剩的 158 万股股分(0.4% 股权)。
要害字: 三星 ASMLASML发布的2023年度陈述,以“小影象,年夜影响”为主题,揭示了ASML的贸易模式和计谋、公司治理,和财政表示环境。
要害字: ASML 阿斯麦近日,美国智库计谋与国际研究中间(CSIS)发文指出:硅光子学支持并鞭策了光互连和光计较的前进,这项新兴手艺可能会改变中美在半导体和人工智能方面的竞争。
要害字: 光刻机 硅光子1月24日,阿斯麦(ASML)发布了2023年第四时度和全年财报,并将2024年定为调剂年,估计全年发卖额与2023年根基持平。
要害字: ASML 阿斯麦本地时候2024年1月1日,光刻机年夜厂ASML发布声明称,荷兰当局比来已部门撤消了2023年发货NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统的许可证,影响到了少数中国客户。
要害字: DUV ASML12月10日动静,尼康公布,将在2024年1月正式推出ArF 193纳米淹没式光刻机“NSR-S636E”,出产效力、套刻精度城市有进一步晋升。
要害字: 尼康 光刻机● ASML联席总裁Peter Wennink和Martin van den Brink将在2024年4月24日荣休;● Jim Koonmen将被录用为首席客户官,插手治理委员会。
要害字: ASML 阿斯麦10月10日动静,这对ASML来讲是否是有点魔幻,俄罗斯号称开辟出可以替换光刻芒果体育机的芯片制造东西。
要害字: 光刻机 7nm本年 6 月的时辰,荷兰当局正式公布了针对进步前辈半导体装备出口的新规,即相干企业(ASML)在出口进步前辈半导体装备之前必需取得当局的许可证,不然将被制止。该划定已在上周五(9 月 1 日)生效,但近日荷兰当局经由过程了 ASML...
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